微波等离子体处理装置

专利权的终止

摘要

本发明提供一种微波等离子体处理装置，能够根据处理条件等的变化，容易地确保等离子体的均匀性和稳定性。是一种利用微波在所述腔室内形成处理气体的等离子体，利用该等离子体对被处理体进行等离子体处理的微波等离子体处理装置(100)，在由覆盖微波透过板(28)的外周的导电体构成的板(27)上，形成两个以上的孔(42)，该孔从微波透过板(28)的端部向着其内部，传送微波，通过体积调节机构(43、45)来调节孔的体积，在将微波透过板(28)分割成各孔(42)所属于的每个单元的情况下，调节各单元的阻抗，控制微波透过板(28)的电场分布。

基本信息

专利标题：

微波等离子体处理装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101036420A

申请号：

CN200580034145.2

公开（公告）日：

2007-09-12

申请日：

2005-10-06

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

田才忠野泽俊久

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本东京都

代理机构：

北京纪凯知识产权代理有限公司

代理人：

龙淳

优先权：

CN200580034145.2

主分类号：

H05H1/46

IPC分类号：

H05H1/46 H01L21/31 C23C16/511