微波等离子体处理装置

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

本发明是一种微波等离子体处理装置，其包括：收容待处理物体的腔室；将处理气体供应到腔室中的处理气体供应单元；产生微波的微波发生源，该微波用于在腔室中形成处理气体的等离子体；将微波发生源所产生的微波导向腔室的波导单元；由导体材料制成的平面天线，其设置有用于将波导单元所引导的微波向腔室辐射的多个微波辐射孔；由介电材料制成的微波透射板，该微波透射板用作腔室的顶壁并透射已经穿过平面天线的微波辐射孔的微波；以及布置于平面天线的相对于微波透射板的相反侧上的慢波板，该慢波板具有缩短到达平面天线的微波的波长的功能。平面天线和微波透射板彼此接触，在它们之间基本上没有空气，慢波板和微波透射板由相同材料制成，并且由慢波板、平面天线、微波透射板和腔室中形成的处理气体的等离子体形成的等效电路满足谐振条

基本信息

专利标题：

微波等离子体处理装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101133688A

申请号：

CN200680007051.0

公开（公告）日：

2008-02-27

申请日：

2006-02-21

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

田才忠石桥清隆野泽俊久山本伸彦

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本东京都

代理机构：

北京纪凯知识产权代理有限公司

代理人：

龙淳

优先权：

CN200680007051.0

主分类号：

H05H1/46

IPC分类号：

H05H1/46 C23C16/511 H01L21/205 H01L21/302