微波处理装置
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摘要
微波处理装置具有处理室、微波供给部以及谐振部。处理室由多个壁面围成，收纳被加热物。微波供给部向处理室提供微波。谐振部设置于多个壁面中的一个壁面，在微波的频带中具有谐振频率。根据本方式，通过对提供到处理室的频率进行控制，能够使谐振部的表面的阻抗发生变化。由此，能够对处理室内的驻波分布、即处理室内的微波能量分布进行控制。其结果是，在对多个被加热物同时进行加热的情况下，能够对各被加热物实施期望的介电加热。
基本信息
专利标题 ：
微波处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110892789A
申请号 ：
CN201880041538.3
公开（公告）日 ：
2020-03-17
申请日 ：
2018-06-28
授权号 ：
CN110892789B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
吉野浩二久保昌之桥本修须贺良介
申请人 ：
松下电器产业株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
邓毅
优先权 ：
CN201880041538.3
主分类号 ：
H05B6/64
IPC分类号 ：
H05B6/64 H05B6/74
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法律状态
2022-06-07 ：
授权
2020-04-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H05B 6/64
申请日 : 20180628
申请日 : 20180628
2020-03-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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