微波等离子体处理装置
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要
一种微波等离子体处理装置包括真空容器，靠微波传输电路把微波导入该容器的装置，向容器内供给原料气体的装置，将容器抽空的装置和样品支架，微波传输电路中设置有与两个匹配电路成一体的空腔谐振器，谐振器外侧设有磁场产生器。该装置的主要特点是：用调节谐振器长度的塞子和圆筒形滑动隔膜、E-H或三短截线式调谐器使匹配容易进行；谐振器内设一钟罩以激励TM模式、在谐振器外安装磁场产生器以提供高磁通密度区域。
基本信息
专利标题 ：
微波等离子体处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1038673A
申请号 ：
CN89103425.0
公开（公告）日 ：
1990-01-10
申请日 ：
1989-05-25
授权号 ：
CN1029992C
授权日 ：
1995-10-11
发明人 ：
川上総一郎金井正博新井孝至村上勉
申请人 ：
佳能株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
王以平
优先权 ：
CN89103425.0
主分类号 ：
C23C16/48
IPC分类号 ：
C23C16/48
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/48
辐射法，例如光分解、辐射分解、粒子辐射
法律状态
2009-08-05 ：
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2002-04-24 ：
其他有关事项
1995-10-11 ：
授权
1991-09-04 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1990-01-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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