等离子体系统
专利权的终止
摘要
在等离子体处理表面的工艺中，在具有入口和出口的介电壳体内产生非平衡大气压等离子体，通过该壳体工艺气体从入口流向出口。在至少部分由介质材料形成的容管从壳体出口向外延伸，其中容管的末端形成等离子体出口。待处理的表面位于等离子体出口附近，使得表面与等离子体接触并相对于等离子体出口而移动。
基本信息
专利标题 ：
等离子体系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101049053A
申请号 ：
CN200580036961.7
公开（公告）日 ：
2007-10-03
申请日 ：
2005-11-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
利亚姆·奥奈尔彼得·杜宾沃尔特·卡斯塔格那
申请人 ：
陶氏康宁爱尔兰有限公司
申请人地址 ：
爱尔兰科克
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
秦晨
优先权 ：
CN200580036961.7
主分类号 ：
H05H1/24
IPC分类号 ：
H05H1/24
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法律状态
2016-12-21 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101692967742
IPC(主分类) : H05H 1/24
专利号 : ZL2005800369617
申请日 : 20051103
授权公告日 : 20111214
终止日期 : 20151103
号牌文件序号 : 101692967742
IPC(主分类) : H05H 1/24
专利号 : ZL2005800369617
申请日 : 20051103
授权公告日 : 20111214
终止日期 : 20151103
2011-12-14 ：
授权
2007-11-28 ：
实质审查的生效
2007-10-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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