一种激光等离子体极紫外光源靶材的优化方法
实质审查的生效
摘要

一种激光等离子体极紫外光源靶材优化方法,通过电子束蒸发的方式在产生激光等离子体的靶材衬底上生长锡薄膜,形成有限质量的固体薄膜靶,通过控制锡层的厚度来控制激光单次作用所消耗的锡量;当高能量脉冲激光与靶材作用产生等离子体时,通过控制薄膜靶的锡量进而优化极紫外光产生的效率和碎屑的产生。通过控制薄膜厚度调整靶材表面生长的锡燃料的量,使其在单次激光脉冲下,光斑作用下的锡可以充分利用,进而可以有效提高激光转化效率和靶材工作物质利用率,并减少碎屑对光学系统的污染。

基本信息
专利标题 :
一种激光等离子体极紫外光源靶材的优化方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114442441A
申请号 :
CN202210166835.9
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2022-02-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
徐永兵陈笑黎遥钟文彬严羽侯鉴波何亮陆显扬
申请人 :
南京大学
申请人地址 :
江苏省南京市鼓楼区汉口路22号
代理机构 :
南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
陈建和
优先权 :
CN202210166835.9
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20220223
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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