一种示踪气体注入装置和方法
公开
摘要

本发明属于核设施重要可居留区密封性现场试验技术领域,具体涉及一种示踪气体注入装置和方法。其中的示踪气体注入装置包括设有注入管线(2)的示踪气体气瓶(1),所述注入管线(2)上设有高精度流量计(3),在所述高精度流量计(3)的控制下所述示踪气体气瓶(1)中的示踪气体能够以设定的试验方法通过所述注入管线(2)注入到被测区域中。本发明在采用浓度衰减法或者恒流量注入法进行核电站主控室可居留区内漏率测量时,能够提供对示踪气体的注入流量的精确控制,满足测量需要。

基本信息
专利标题 :
一种示踪气体注入装置和方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114295301A
申请号 :
CN202111411457.8
公开(公告)日 :
2022-04-08
申请日 :
2021-11-25
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
郑仕建刘文杰钟小华张彪胡靖
申请人 :
中国核电工程有限公司
申请人地址 :
北京市海淀区西三环北路117号
代理机构 :
北京天悦专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
任晓航
优先权 :
CN202111411457.8
主分类号 :
G01M3/20
IPC分类号 :
G01M3/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试;其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M3/00
结构部件的流体密封性的测试
G01M3/02
应用流体或真空
G01M3/04
通过在漏泄点检测流体的出现
G01M3/20
应用特殊示踪物质,例如染料、荧光材料、放射性材料
法律状态
2022-04-08 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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