一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法
实质审查的生效
摘要
一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法,显示基板包括设于基底上的多个第一电极、像素界定层、辅助电极、有机功能层和第二电极层;像素界定层设有多个将第一电极暴露出的第一开口和第二开口,辅助电极设于第二开口处,辅助电极的远离基底的表面的一部分或全部被第二开口暴露,辅助电极的远离基底的表面的被第二开口暴露的部分在基底上的正投影包含第二开口的远离基底的一端在基底上的正投影;有机功能层和第二电极层依次叠设于多个第一电极和像素界定层的远离基底的一侧,有机功能层在第二开口处断开并将辅助电极的远离基底的表面的至少一部分暴露,辅助电极的远离基底的表面的至少一部分与第二电极层搭接。可以改善显示基板发光不均匀现象。
基本信息
专利标题 :
一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114420859A
申请号 :
CN202111435593.0
公开(公告)日 :
2022-04-29
申请日 :
2021-11-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
李杨黄维赵德江卢天豪田禹靳倩孙倩
申请人 :
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 :
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 :
北京安信方达知识产权代理有限公司
代理人 :
解婷婷
优先权 :
CN202111435593.0
主分类号 :
H01L51/52
IPC分类号 :
H01L51/52 H01L51/56 H01L27/32
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 51/52
申请日 : 20211129
申请日 : 20211129
2022-04-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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