光电跟踪系统的跟踪性能测试装置及测试方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种光电跟踪系统的跟踪性能测试装置及测试方法。光电跟踪系统的跟踪性能测试装置包括:目标模拟器,包括运动结构组件、靶标结构、和黑体,运动结构组件用于驱动靶标结构运动;投影红外光学成像系统用于将靶标结构的图像经过透射后形成平行光图像,以模拟无穷远目标;控制系统用于控制运动结构组件的运动以及黑体的温度,并获取靶标结构的位置信息;图像采集控制计算机用于根据光电跟踪系统对靶标机构的跟踪情况,判定光电跟踪系统的跟踪性能。本发明中黑体的温度以及靶标结构的运动都可以控制,从而可以模拟不同目标,提高光电跟踪性能测试效果和测试效率,而且通过采用长焦透射式光学系统,具有大视场。

基本信息
专利标题 :
光电跟踪系统的跟踪性能测试装置及测试方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114323563A
申请号 :
CN202111491412.6
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-08
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
万英张春仙张续
申请人 :
中国电子科技集团公司第十一研究所
申请人地址 :
北京市朝阳区酒仙桥路4号
代理机构 :
工业和信息化部电子专利中心
代理人 :
吴淑艳
优先权 :
CN202111491412.6
主分类号 :
G01M11/00
IPC分类号 :
G01M11/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试;其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M11/00
光学设备的测试;其他类目未包括的用光学方法测试结构部件
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01M 11/00
申请日 : 20211208
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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