投射方法、投射系统以及记录介质
公开
摘要
投射方法、投射系统以及记录介质，能够使用与投影仪分体且未固定的拍摄装置，与投影仪和被投射物的位置关系变化对应地校正投射图像。信息处理装置(20)确定投影仪坐标系与照相机坐标系的第1对应关系。在投影仪与被投射物的位置关系发生了变化时，确定投影仪坐标系与照相机坐标系的第2对应关系。信息处理装置基于根据第1对应关系将发生位置关系变化前的由拍摄装置(220)拍摄的被投射物(SC)的拍摄图像变换到投影仪坐标系而得到的第3图像中的第1特征点、和根据第2对应关系将变化后的拍摄图像变换到投影仪坐标系而得到的第4图像中的与第1特征点对应的第2特征点，生成校正信息，并使用该校正信息使投影仪投射校正后的投射图像。
基本信息
专利标题 ：
投射方法、投射系统以及记录介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114630089A
申请号 ：
CN202111493064.6
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2021-12-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
黑田一平宍户洋一
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
邓毅
优先权 ：
CN202111493064.6
主分类号 ：
H04N9/31
IPC分类号 ：
H04N9/31 G03B21/14 G03B21/26
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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