调整方法、测量方法、投射系统、信息处理装置和记录介质
公开
摘要
调整方法、测量方法、投射系统、信息处理装置和记录介质。避免产生被投射了投射图像的被投射物的拍摄图像中的高光溢出或暗部缺失。信息处理装置具有确定部、检测部、估计部和调整部。确定部根据被投射了图案图像的被投射物的拍摄图像和图案图像，确定投影仪坐标系与摄像头坐标系的对应关系。检测部检测被投射了亮度均匀的单色图像的被投射物的拍摄图像中的第1区域和第2区域的亮度。估计部针对在单色图像中与第1区域对应起来的第3区域和与第2区域对应起来的第4区域，估计不使拍摄图像中的亮度饱和的亮度的范围。调整部根据估计部的估计结果，调整在投射图像中与第3区域对应的第5区域和与第4区域对应的第6区域的亮度。
基本信息
专利标题 ：
调整方法、测量方法、投射系统、信息处理装置和记录介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114615483A
申请号 ：
CN202111462972.9
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2021-12-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
山内泰介
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
李庆泽
优先权 ：
CN202111462972.9
主分类号 ：
H04N13/10
IPC分类号 ：
H04N13/10 H04N13/25 H04N13/30
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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