投射装置
实质审查的生效
摘要
投射装置。能够实现小型化。投射装置具有：投射光学装置，其具有供图像光入射的入射光路和从入射光路折曲的通过光路；图像生成装置，其使图像光入射到入射光路；光源装置，其向图像生成装置供给照明光；以及第1装置，其相对于投射光学装置配置于与光源装置相反的一侧，第1装置是控制装置和电源装置中的至少一方。
基本信息
专利标题 ：
投射装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114384744A
申请号 ：
CN202111197818.3
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2021-10-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
大月伸行座光寺诚田中克典
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
李庆泽
优先权 ：
CN202111197818.3
主分类号 ：
G03B21/14
IPC分类号 ：
G03B21/14 G03B21/16 G03B21/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03B
摄影、放映或观看用的装置或设备；利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备；以及有关的附件
G03B21/00
放映机或放映式看片机；有关附件
G03B21/14
零部件
法律状态
2022-05-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03B 21/14
申请日 : 20211014
申请日 : 20211014
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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