投射装置以及投射系统
授权
摘要

一种投射装置,所述投射装置包括光线发射元件,所述光线发射元件包括发射器以及位于所述发射器上的图形盖板,所述发射器用于朝向所述图形盖板发射光线,所述图形盖板包括朝向所述发射器的第一表面以及与所述第一表面向背的第二表面,所述第二表面向内凹陷形成图形凹槽,使得所述光线经过具有所述图形凹槽的所述图形盖板后形成原始图形。本申请还提供一种包括所述投射装置的投射系统。本申请所提供的投射装置所形成的实际图形,测试结果的参考性更高;原始图形可以重复利用,避免图形的重复设计,节省了材料成本以及时间成本。

基本信息
专利标题 :
投射装置以及投射系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921690364.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-10
授权号 :
CN211375200U
授权日 :
2020-08-28
发明人 :
陈晋科
申请人 :
晋城三赢精密电子有限公司
申请人地址 :
山西省晋城市开发区兰花路1216号富士康B区B2栋厂房
代理机构 :
深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司
代理人 :
刘永辉
优先权 :
CN201921690364.1
主分类号 :
G02B27/09
IPC分类号 :
G02B27/09  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/09
其他位置不包括的光束整形,例如改变横截面积
法律状态
2020-08-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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