光投射装置、成像系统及电子设备
授权
摘要

本申请实施例公开了光投射装置、成像系统及电子设备。其中,光投射装置包括:光源;至少两个依序排列的第一光整形元件,所述第一光整形元件配置为对入射光的一部分进行透射且对入射光的另一部分进行反射,排列顺序处于第一位的第一光整形元件设置为接收光源发射的光,其余第一光整形元件均设置为接收来自于排列顺序在前的一个第一光整形元件的反射光;第二光整形元件,所述第二光整形元件配置为对入射光进行透射,所述第二光整形元件设置为接收来自于排列顺序处于最后一位的第一光整形元件的反射光。光投射装置在工作时,每一个第一光整形元件和第二光整形元件均会投射出探测光线,可以有效地扩大探测光线的角度范围。

基本信息
专利标题 :
光投射装置、成像系统及电子设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022524233.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-11-04
授权号 :
CN213986838U
授权日 :
2021-08-17
发明人 :
成纯森丁细超李宗政
申请人 :
江西欧迈斯微电子有限公司
申请人地址 :
江西省南昌市南昌高新技术产业开发区天祥北大道699号
代理机构 :
北京恒博知识产权代理有限公司
代理人 :
范胜祥
优先权 :
CN202022524233.5
主分类号 :
G01S17/894
IPC分类号 :
G01S17/894  G01S7/481  G02B27/09  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01S
无线电定向;无线电导航;采用无线电波测距或测速;采用无线电波的反射或再辐射的定位或存在检测;采用其他波的类似装置
G01S17/894
在二维接收像素阵列上同时测量飞行时间的三维成像,例如飞行时间照相机或闪光激光雷达
法律状态
2021-08-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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