结构光投射器及三维成像装置
授权
摘要

本实用新型提供了一种结构光投射器及三维成像装置,包括基板、光源、投射透镜以及衍射光学元件;光源的数量为多个,多个光源设置在基板且在基板上呈准晶体形状排布;投射透镜设置光源的出光侧,构造为接收由光源发射的光,并投射出呈准晶体形状排列的光束阵列;衍射光学元件,设置在投射透镜的出光侧,用于扩展呈准晶体形状排列的多束光束以投射出多个彼此相邻的呈准晶体形状排列的光束阵列。本实用新型中多个光源设置在基板且在基板上呈准晶体形状排布,从而能够投射出呈准晶体形状排布的光斑点阵,使得光斑点阵的排布整体呈随机性同时局部具有一定的规律性,从而能够通过光斑点阵的局部信息恢复丢失的点,增强了结构光摄像头的鲁棒性。

基本信息
专利标题 :
结构光投射器及三维成像装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020283617.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-03-10
授权号 :
CN211786409U
授权日 :
2020-10-27
发明人 :
朱力吕方璐汪博
申请人 :
深圳市光鉴科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区白石路3609号深圳湾科技生态园二区9栋518B
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202020283617.X
主分类号 :
G02B27/42
IPC分类号 :
G02B27/42  G03B35/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/42
衍射光学
法律状态
2020-10-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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