投射装置和投射系统
公开
摘要
本发明提供投射装置和投射系统，设置时的美观性良好。本发明的投射装置具有：光源单元；图像形成单元；投射光学单元；以及壳体，其具有相互对置的第1面和第2面，对光源单元、图像形成单元和投射光学单元进行收纳，第1面具有第1区域、和从第2面起的高度比第1区域低的第2区域，在第2区域设置有承接部，悬吊用安装件安装于所述承接部。
基本信息
专利标题 ：
投射装置和投射系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114578643A
申请号 ：
CN202111419722.7
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2021-11-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
大月伸行
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
邓毅
优先权 ：
CN202111419722.7
主分类号 ：
G03B21/54
IPC分类号 ：
G03B21/54 F16M13/02 F16M11/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03B
摄影、放映或观看用的装置或设备；利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备；以及有关的附件
G03B21/00
放映机或放映式看片机；有关附件
G03B21/54
附件
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
