投射系统和器具
实质审查的生效
摘要
投射系统和器具。能够容易地将投影仪设置于适当的位置。投射系统，其具有投射图像光的投影仪和搭载投影仪的器具，器具具有：器具主体；设置部，其设置于器具主体，设置有投影仪；以及开闭部件，其设置于供设置于设置部的投影仪投射的图像光穿过的开口，对关闭开口的关闭状态和打开开口的打开状态进行切换，通过在打开状态下使开闭部件对准于与投射面的位置，来将投影仪的位置定位于相对于投射面的规定的投射位置处，投影仪通过从规定的投射位置向投射面投射图像光来在投射面上构成矩形的投射图像。
基本信息
专利标题 ：
投射系统和器具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114286063A
申请号 ：
CN202111150309.5
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2021-09-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
黃志浩黃少白
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
李庆泽
优先权 ：
CN202111150309.5
主分类号 ：
H04N9/12
IPC分类号 ：
H04N9/12 G03B21/14
法律状态
2022-04-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H04N 9/12
申请日 : 20210929
申请日 : 20210929
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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