多个检测设备联合测量工件形位公差的方法及系统
实质审查的生效
摘要

本发明公开一种多个检测设备联合测量工件形位公差的方法及系统。该方法包括:将激光跟踪仪的四个靶座安装在待测工件的局部位置;设置四个靶座的相互具体位置,将激光跟踪仪的靶球依次安放在四个靶座上测量,以得到四个激光坐标点,根据四个激光坐标点建立激光跟踪仪的坐标系σ1;通过关节臂的探针依次在待测工件的四个靶座位置测量拟合,以得到四个球心坐标点,根据四个球心坐标点建立关节臂的坐标系σ2;将σ1和σ2进行拟合,得到公共坐标系σ3;根据σ3对待测工件进行测量。本发明中,因待测工件比较大,充分利用激光跟踪仪大空间测量能力可以测量待测工件的整体特性,利用关节臂高精度测量能力能够提高大工件的测量精度,该方法实现简单,易用性高。

基本信息
专利标题 :
多个检测设备联合测量工件形位公差的方法及系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114459343A
申请号 :
CN202111495757.9
公开(公告)日 :
2022-05-10
申请日 :
2021-12-09
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
苏文瑾赵忠李伟史福强张树平梁晴赵玉梅赵鑫
申请人 :
山西汾西重工有限责任公司
申请人地址 :
山西省太原市万柏林区和平北路131号
代理机构 :
北京城烽知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
王新月
优先权 :
CN202111495757.9
主分类号 :
G01B11/00
IPC分类号 :
G01B11/00  G01B11/24  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
法律状态
2022-05-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/00
申请日 : 20211209
2022-05-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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