确定2DEG浓度沿栅宽分布的方法及系统
实质审查的生效
摘要

本发明涉及一种确定2DEG浓度沿栅宽分布的方法,包括利用器件的C‑V曲线计算得到2DEG平均浓度,基于2DEG平均浓度与栅极宽边的乘积,得到2DEG沿栅极宽边的总浓度;在器件的栅极施加不等的电压来调节器件的电致发光强度,获取不等栅压下的器件发光图;根据器件发光图得到不等栅压下电致发光强度沿栅极宽边的分布状态,基于电致发光强度沿栅极宽边的分布状态计算得到总光强随栅压的变化关系,并确定某一栅压下沿栅极宽边的总光强和2DEG总浓度,得到单位光强下的2DEG浓度;基于单位光强下的2DEG浓度和电致发光强度计算得到沿栅极宽边分布的2DEG浓度。本发明能够测试出2DEG浓度在器件内的实际分布,对提高临界电压、临界场强等器件参数的精确度有重要意义。

基本信息
专利标题 :
确定2DEG浓度沿栅宽分布的方法及系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114414553A
申请号 :
CN202111495770.4
公开(公告)日 :
2022-04-29
申请日 :
2021-12-08
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
陈雷雷闫大为顾晓峰
申请人 :
无锡芯鉴半导体技术有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市新吴区净慧东道66号4号楼4708室
代理机构 :
苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
李柏柏
优先权 :
CN202111495770.4
主分类号 :
G01N21/66
IPC分类号 :
G01N21/66  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发,因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/66
电激发的,例如电发光
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/66
申请日 : 20211208
2022-04-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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