一种用于异质结CVD设备的载板传输提升系统
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种用于异质结CVD设备的载板传输提升系统,包括腔体、喷淋板、载板、加热基板和传输装置,传输装置包括外轴动力、内轴动力和多对磁流体传输机构,磁流体传输机构包括磁流体、内轴、外轴、传输轴和翻转板,外轴套在内轴上且二者可相对转动,磁流体套在外轴上且二者可相对转动,翻转板与内轴固定连接,传输轴可转动的设在翻转板上,传输轴与外轴通过啮合件配合,外轴动力用于驱动外轴转动,内轴动力用于驱动内轴转动,传输轴和翻转板设于腔体内,载板置于各传输轴上。本发明利用同心双轴磁流体结构,同时驱动载板的传输和提升,既能使实现载板传输,又能使载板在镀膜时脱离传输轴并与加热基板接触,简化了结构,降低了设备成本。
基本信息
专利标题 :
一种用于异质结CVD设备的载板传输提升系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114351122A
申请号 :
CN202111527141.5
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2021-12-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
唐电杨彬张单辉许烁烁
申请人 :
湖南红太阳光电科技有限公司
申请人地址 :
湖南省长沙市高新开发区桐梓坡西路586号
代理机构 :
湖南兆弘专利事务所(普通合伙)
代理人 :
戴玲
优先权 :
CN202111527141.5
主分类号 :
C23C16/54
IPC分类号 :
C23C16/54 C23C16/46 C23C16/455 H01L21/677
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/54
连续镀覆的专用设备
法律状态
2022-05-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/54
申请日 : 20211214
申请日 : 20211214
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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