一种光学材料折射率测试装置及测试方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种光学材料折射率测试装置及测试方法,所述装置包括多波长光路系统、原位高度测量系统和位相检测系统,及双光路模块和正交偏光模块、自动升降模块、快速聚焦模块和实时高度测算模块、自动成像模块;其中,所述多波长光路系统包括双光路模块和正交偏光模块;所述原位高度测量系统包括快速聚焦模块、自动升降模块和实时高度测算模块;所述位相检测系统包括自动成像模块。本发明提供的折射率测试装置和测试折射率的方法,能够有效地实现连续波长折射率测试,充分考虑折射率的频率色散。本发明基于微晶颗粒的折射率测试装置及测试方法,将有助于非线性光学晶体、双折射晶体等新型光学材料的快速性能评估,大幅缩短材料研发周期。

基本信息
专利标题 :
一种光学材料折射率测试装置及测试方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114280007A
申请号 :
CN202111531881.6
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
龙西法王祖建杨云苏榕冰何超杨晓明
申请人 :
中国科学院福建物质结构研究所
申请人地址 :
福建省福州市杨桥西路155号
代理机构 :
北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
刘元霞
优先权 :
CN202111531881.6
主分类号 :
G01N21/45
IPC分类号 :
G01N21/45  G01N21/01  G01B11/06  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/41
折射率;影响相位的性质,例如光程长度
G01N21/45
利用干涉量度法,利用纹影方法
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/45
申请日 : 20211214
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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