检测装置
实质审查的生效
摘要

本申请涉及一种检测装置。该检测装置包括:匀光结构及光源组件。匀光结构包括透明基体及设置于透明基体的多个匀光单元。透明基体包括第一表面、与第一表面相对设置的第二表面及连接第一表面与第二表面的多个侧表面,光源组件位于透明基体的至少一个侧表面,多个匀光单元设置于第一表面,匀光单元用于将光源组件发出的光线反射后入射至待测物。上述检测装置,由于在透明基体上设置多个匀光单元,光源组件发出的光线经匀光单元反射后入射至待测物的表面,可以将光源组件发出的光线进行均匀化,使得光线可以均匀的照射在待测物的表面,还可以减少或消除光源组件带来的阴影,有利于提高检测装置的准确性。

基本信息
专利标题 :
检测装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114486904A
申请号 :
CN202111534793.1
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2021-12-15
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
吴丽莹
申请人 :
吴丽莹
申请人地址 :
黑龙江省哈尔滨市南岗市园丁小区3栋902室
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202111534793.1
主分类号 :
G01N21/88
IPC分类号 :
G01N21/88  G01N21/01  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/88
申请日 : 20211215
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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