一种光度均匀的低光大理石陶瓷砖及其制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种光度均匀的低光大理石陶瓷砖及其制备方法，涉及陶瓷砖技术领域。本发明的光度均匀的低光大理石陶瓷砖包括坯体和釉面层；所述釉面层由下至上分别由面釉层、喷墨打印层和干粒釉层叠加而成；所述面釉层由以下质量百分比的组分组成：基础面釉98.68％～99.34％，铝水0.66％～1.32％；所述喷墨打印层由喷墨打印机根据表面效果需求，在施有面釉层的砖坯上打印出相应图案及色彩；所述干粒釉层由以下组分组成：印油，印膏，干粒和抛釉；所述干粒釉层中干粒与抛釉的重量比为：干粒：抛釉＝(1～6:15～45)。本发明的大理石陶瓷砖具有柔和、舒适的效果，耐磨性能好，制备工艺简单，成本低廉，且不需要改变现有生产线，推广简单。
基本信息
专利标题 ：
一种光度均匀的低光大理石陶瓷砖及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114276167A
申请号 ：
CN202111570308.6
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2021-12-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
黄少卿邓波区邦熙李道杰李志豪
申请人 ：
清远市简一陶瓷有限公司;广东简一（集团）陶瓷有限公司
申请人地址 ：
广东省清远市清城区飞来峡镇升平工业园
代理机构 ：
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 ：
颜希文
优先权 ：
CN202111570308.6
主分类号 ：
C04B41/89
IPC分类号 ：
C04B41/89 C03C8/00 C03C8/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C04
水泥；混凝土；人造石；陶瓷；耐火材料
C04B
石灰；氧化镁；矿渣；水泥；其组合物，例如：砂浆、混凝土或类似的建筑材料；人造石；陶瓷；耐火材料；天然石的处理
C04B41/00
砂浆、混凝土、人造石或陶瓷的后处理；天然石的处理
C04B41/80
仅对陶瓷的
C04B41/81
涂覆或浸渍
C04B41/89
形成至少两层具有不同组成的叠加层的
法律状态
2022-04-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C04B 41/89
申请日 : 20211221
申请日 : 20211221
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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