热处理机台的温度监测方法及校正方法
实质审查的生效
摘要

本发明提供一种热处理机台的温度监测方法及校正方法。其中,所述监测方法是通过获取待监测热处理机台的标准曲线,并以此为基准,将测量得到的所述特征值,代入所述标准曲线,获得理想的所述第一标准温度。继而,直接将热处理机台的设定温度与所述第一标准温度进行比较,则根据所述偏差值判断出所述热处理机台的温控能力。其中,所述标准曲线为拟合曲线,对应的温度变化范围广,不受晶圆上膜层材质的影响。并且,无需在晶圆上生成膜层,不影响晶圆的正常使用,不会造成晶圆浪费,监测成本低;以及监测过程简单,便于操作。因此,本发明不但可以精准监测热处理机台的温控能力,而且监测成本低,监测范围广,操作简单。

基本信息
专利标题 :
热处理机台的温度监测方法及校正方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114334689A
申请号 :
CN202111582777.X
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-22
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
冯木材黄家明陶卓朱上进
申请人 :
广州粤芯半导体技术有限公司
申请人地址 :
广东省广州市黄埔区凤凰五路28号
代理机构 :
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 :
冯启正
优先权 :
CN202111582777.X
主分类号 :
H01L21/66
IPC分类号 :
H01L21/66  H01L21/67  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/66
在制造或处理过程中的测试或测量
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/66
申请日 : 20211222
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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