校正半导体制造机台中晶圆位置的工具和方法
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摘要

本公开涉及一种校正半导体制造机台中晶圆位置的工具和方法,半导体制造机台具有腔室,腔室的一侧设置有晶圆承载装置,晶圆能放置在晶圆承载装置靠近腔室的表面上,且晶圆与晶圆承载装置边缘之间具有间隙,上述工具包括:盖板,设置在腔室远离晶圆承载装置的一侧,并覆盖腔室,盖板具有安装孔;透明板,安装于安装孔内,且晶圆承载装置在透明板上的投影位于透明板内;第一标尺和第二标尺,设置在透明板上,第一标尺沿第一方向和背离第一方向的方向延伸至透明板边缘,第二标尺沿第二方向和背离第二方向的方向延伸至透明板边缘,且第一标尺和第二标尺上设置有多个均匀分布的分度标识;其中,第二方向与第一方向相交。该工具能够准确的调整晶圆位置。

基本信息
专利标题 :
校正半导体制造机台中晶圆位置的工具和方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112864071A
申请号 :
CN202110060868.0
公开(公告)日 :
2021-05-28
申请日 :
2021-01-18
授权号 :
CN112864071B
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
王志久
申请人 :
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号
代理机构 :
北京律智知识产权代理有限公司
代理人 :
王辉
优先权 :
CN202110060868.0
主分类号 :
H01L21/68
IPC分类号 :
H01L21/68  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/68
用于定位、定向或对准的
法律状态
2022-04-01 :
授权
2021-06-15 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/68
申请日 : 20210118
2021-05-28 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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