一种基于Co:LMA晶体可饱和吸收体的1319nm被动调...
公开
摘要
本发明公开了一种基于Co:LMA晶体可饱和吸收体的1319nm被动调Q固体激光器，涉及激光技术领域。本发明首次采用Co:LMA晶体作为可饱和吸收体在激光二极管泵浦的被动调Q Nd:YAG固体激光器中产生1319nm的调Q激光脉冲。所述激光器包括激光二极管泵浦源、光学耦合系统、激光增益介质、Co:LMA可饱和吸收体、激光谐振腔的前腔镜和后腔镜。激光二极管泵浦源的泵浦激光经光学耦合系统进入激光谐振腔，聚焦在激光增益介质Nd:YAG陶瓷晶体上形成半径约为200μm的光斑，激光增益介质受到泵浦激光的激励发生粒子数反转产生受激辐射，在谐振腔中形成1319nm的连续波激光。在1319nm的连续波激光经过Co:LMA可饱和吸收体时，由于Co:LMA可饱和吸收体的非线性饱和吸收特性而实现1319nm的调Q激光脉冲。激光谐振腔的前腔镜作为输出耦合器，其在1319nm的透过率为1％。本发明激光器结构紧凑、操作简便，易于广泛应用。
基本信息
专利标题 ：
一种基于Co:LMA晶体可饱和吸收体的1319nm被动调Q固体激光器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114597751A
申请号 ：
CN202111584577.8
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2021-12-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张华年孙硕张晗孙新张建华
申请人 ：
台州同合激光科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省台州市温岭市东部新区金塘北路2号中小企业孵化园B区2号科研厂房二楼
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202111584577.8
主分类号 ：
H01S3/08
IPC分类号 ：
H01S3/08 H01S3/04 H01S3/042 H01S3/067 H01S3/0941
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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