用于半导体蚀刻废液中氯化铜提纯的电渗析装置
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种用于半导体蚀刻废液中提纯氯化铜电渗析装置。本发明电渗析装置包括淡化室、浓缩室和极室，由阳离子交换膜、阴离子交换膜间隔排列构成，其中所述的阳离子交换膜为提纯铜的复合膜。利用电渗析装置在直流电场推动下进行操作，采用复合膜选择性透过Na+离子而截留Cu2+离子，能实现对废液中铜的纯化，有利于后续资源化利用。本发明基于选择性阳离子交换的复合膜的电渗析装置用于蚀刻废液中氯化铜的提纯，具有操作简单、占地小、易于模块化放大等优点。
基本信息
专利标题 ：
用于半导体蚀刻废液中氯化铜提纯的电渗析装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114377552A
申请号 ：
CN202111587471.3
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2021-12-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
郝亚超李亮张成凯李亚宁付春明郝润秋肖彩英刘祺师晓光周立山靳晓霞
申请人 ：
中海油天津化工研究设计院有限公司;中国海洋石油集团有限公司
申请人地址 ：
天津市红桥区丁字沽三号路85号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202111587471.3
主分类号 ：
B01D61/42
IPC分类号 ：
B01D61/42 B01D69/12 C01G3/05
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D61/00
利用半透膜分离的方法，例如渗析，渗透，超滤；其专用设备，辅助设备或辅助操作
B01D61/42
电渗析；电渗透
法律状态
2022-05-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B01D 61/42
申请日 : 20211223
申请日 : 20211223
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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