一种复合聚磁薄膜
实质审查的生效
摘要
一种复合聚磁薄膜，包括：若干交替叠置的第一电镀薄膜和第二电镀薄膜；所述第一电镀薄膜为多晶态NixFeyMoz薄膜，所述第二电镀薄膜为非晶态NixFeyMoz薄膜；或者所述第一电镀薄膜为NixFeyMoz薄膜，所述第二电镀薄膜为非磁性材料薄膜。本发明的复合聚磁薄膜采用多晶态和非晶态的叠层结构或者磁性与非磁性的叠层结构，可以避免单一材料薄膜在达到一定厚度后出现各向异性而降低薄膜的聚磁性能，并解决了单一材料电镀由于应力集中和晶格缺陷等存在厚度极限的问题及磁控溅射制备磁通聚磁薄膜材料组分不便调节以及厚度难以提高的问题，能够得到均匀且相对于磁控溅射和电镀单层薄膜更厚的复合薄膜，实现了最终成本的大幅降低。
基本信息
专利标题 ：
一种复合聚磁薄膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114318445A
申请号 ：
CN202111594702.3
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘明马孝瑜关蒙萌胡忠强朱家训
申请人 ：
珠海多创科技有限公司
申请人地址 ：
广东省珠海市高新区唐家湾镇科技七路1号4栋5-B单元
代理机构 ：
广东朗乾律师事务所
代理人 ：
杨焕军
优先权 ：
CN202111594702.3
主分类号 ：
C25D5/10
IPC分类号 ：
C25D5/10 C25D5/16 C25D3/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D5/00
以工艺方法为特征的电镀；工件的预处理或后处理
C25D5/10
一层以上相同金属或不同金属的电镀
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C25D 5/10
申请日 : 20211224
申请日 : 20211224
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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