显示装置及其制备方法
公开
摘要
本申请公开了一种显示装置及其制备方法，所述显示装置包括：阵列层；均热层，设于所述阵列一侧的表面；模组支撑层，设于所述均热层远离所述阵列层的一侧；以及导热层，设于所述模组支撑层远离所述均热层的一侧。本申请的技术效果在于，均热层与导热层双层散热，改善散热效果。
基本信息
专利标题 ：
显示装置及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114300635A
申请号 ：
CN202111612369.4
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2021-12-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
周敏
申请人 ：
深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号
代理机构 ：
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
莫胜钧
优先权 ：
CN202111612369.4
主分类号 ：
H01L51/52
IPC分类号 ：
H01L51/52 H01L51/56
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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