背光模组及其制备方法、显示装置

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摘要

本申请公开了一种背光模组及其制备方法、显示装置。所述背光模组包括一阵列基板以及设置于所述阵列基板上的多个发光器件，所述阵列基板包括：一衬底基板，以及设置于所述衬底基板上的第一金属层和第二金属层；一平坦层，覆盖所述第一金属层及所述第二金属层，并暴露所述第一金属层的部分和所述第二金属层的部分；以及，一金属叠层，设置于所述平坦层上并接触所述平坦层暴露的所述第一金属层的部分及所述第二金属层的部分；所述金属叠层包括至少一层的第一金属、至少一层的第二金属和至少一层的金属氧化物，并且，所述第一金属为钼。所述第二金属具有高强反光性，并且导电性优于所述金属氧化物，可有效降低光损耗，同时达到更好的导电性。

基本信息

专利标题：

背光模组及其制备方法、显示装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111312742A

申请号：

CN202010188263.5

公开（公告）日：

2020-06-19

申请日：

2020-03-17

授权号：

CN111312742B

授权日：

2022-04-05

发明人：

王明耀刘俊领

申请人：

深圳市华星光电半导体显示技术有限公司

申请人地址：

广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号

代理机构：

深圳紫藤知识产权代理有限公司

代理人：

刁文魁

优先权：

CN202010188263.5

主分类号：

H01L27/15

IPC分类号：

H01L27/15 H01L27/12 H01L21/768 G09F9/33