本发明属于图形处理技术领域，公开了一种建筑物阴影分析方法、装置、设备及存储介质。本发明通过在当前时刻为预设采样时刻时，获取预设插值点在预设坐标系下的初始插值坐标，根据当前光照信息确定对应的变换矩阵，根据变换矩阵对初始插值坐标进行坐标变换，获得目标插值坐标，根据目标插值坐标确定预设插值点的插值深度，根据待分析建筑物对应的阴影贴图，根据阴影贴图确定待分析建筑物在阴影贴图下的贴图深度，根据插值深度和贴图深度确定待分析建筑物的阴影率。与现有技术需要人工统计太阳照射次数分析阴影率相比，本发明根据插值点的插值深度和待分析建筑物在阴影贴图上的深度确定待分析建筑物的阴影率，提升了阴影率的分析速率和准确性。