一种高纯水溶性硅片清洗剂及其制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及一种高纯水溶性硅片清洗剂及其制备方法，包括以下重量百分比的组分：表面活性剂5～10％、聚合物助洗剂5～15％、助溶剂1～5％、增强剂25～40％和高纯水35～50％。与现有技术相比，本发明底漆VOC含量低，且漆膜干性快，韧性好，早期耐水性能佳，防腐性能优异，另外，本发明清洗剂主要用于抛光后硅片清洗及擦片工序，主要祛除硅片在加工过程中表面沾染的润滑剂、灰尘及其它污物。是一种无毒、无害、安全、无污染的清洗剂。
基本信息
专利标题 ：
一种高纯水溶性硅片清洗剂及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114317128A
申请号 ：
CN202111620195.6
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张传好周励纪招君
申请人 ：
上海化学试剂研究所有限公司
申请人地址 ：
上海市普陀区真北路401号
代理机构 ：
上海科盛知识产权代理有限公司
代理人 ：
蒋亮珠
优先权 ：
CN202111620195.6
主分类号 ：
C11D1/29
IPC分类号 ：
C11D1/29 C11D1/72 C11D3/60 C11D3/37 C11D3/22 C11D3/20
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C11
动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛
C11D
洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收
C11D1/00
主要以表面活性化合物为基料的洗涤组合物；使用这些化合物作为洗涤剂
C11D1/02
阴离子化合物
C11D1/12
磺酸或硫酸脂；其盐类
C11D1/29
聚亚氧烷基醚的硫酸盐
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C11D 1/29
申请日 : 20211228
申请日 : 20211228
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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