本发明提供了一种高精度纳米硅材料的制备方法，包括以下步骤：将洁净硅片浸入氯金酸和氢氟酸混合而成的镀液中，在硅片表面沉积一层金纳米薄膜；取出沉积完成后的硅片，用去离子水清洗干净残留液，用氮气吹干得到镀金硅片；将镀金硅片浸入由氢氟酸和硝酸铁混合而成的腐蚀液中，刻蚀得到纳米硅材料。本发明所提供的制备方法，简单易操作，实用性强；该制备方法解决了金属颗粒在催化刻蚀纳米硅过程中在腐蚀液中稳定性不佳的问题，大大提高了纳米硅材料的精度，为高精度纳米材料的制备提供了一种技术手段，推动了纳米硅材料在电子器件等领域的研究和产业化的进一步发展。