一种高强度壳体及其制备方法
公开
摘要
本发明公开了一种高强度壳体及其制备方法，包括第一绝缘层和第二绝缘层，第一绝缘层的左侧面上开设有凹槽，凹槽内设置有导通层，第二绝缘层自左向右扣接在导通层及第一绝缘层的左侧面上，导通层上设有触点结构，第二绝缘层上沿左右方向贯穿第二绝缘层开设有连接孔，连接孔与触点结构左右对应设置。本发明具有强度高，不易变形等优点。
基本信息
专利标题 ：
一种高强度壳体及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114302006A
申请号 ：
CN202111648171.1
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2021-12-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
杨孟刘飞游志聪
申请人 ：
东莞美景科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市塘厦镇石鼓村塘天南路33号2栋六楼
代理机构 ：
深圳市汇信知识产权代理有限公司
代理人 ：
赵英杰
优先权 ：
CN202111648171.1
主分类号 ：
H04M1/18
IPC分类号 ：
H04M1/18 B32B3/30 B32B3/08 B32B3/24 B32B9/00 B32B9/04 B32B37/06 B32B38/00
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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