一种相控阵通道幅相校正网络的设计方法及存储介质
实质审查的生效
摘要
本发明涉及射频电路领域，公开了一种相控阵通道幅相校正网络的设计方法及存储介质。该方法包括：将天线互联端口层、带状线射频层以及TR互联端口层各自制作在一个射频基板上，再将多个射频基板进行复合叠层；将所述天线互联端口层采用微小型表贴射频连接器的方式与天线互联，或者将天线做成表贴封装与所述天线互联端口层互联；将所述TR互联端口层采用微小型表贴射频连接器的方式与TR类型的前端组件连接，或者将TR类型的前端组件做成表贴封装与所述TR互联端口层互联；将所述带状线射频层采用集成电阻基板内埋的方式设置。本方法实现了对宽带相控阵射频通道间组件幅相一致性耦合校正和环境变化的幅相一致性校正。
基本信息
专利标题 ：
一种相控阵通道幅相校正网络的设计方法及存储介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114422045A
申请号 ：
CN202111652717.0
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2021-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
笪余生蔡雪芳廖翱周俊高阳曾斌练平杜顺勇宋阳
申请人 ：
中国电子科技集团公司第二十九研究所
申请人地址 ：
四川省成都市金牛区营康西路496号
代理机构 ：
成都九鼎天元知识产权代理有限公司
代理人 ：
罗强
优先权 ：
CN202111652717.0
主分类号 ：
H04B17/12
IPC分类号 ：
H04B17/12 H04B17/21
法律状态
2022-05-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H04B 17/12
申请日 : 20211230
申请日 : 20211230
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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