UV光检测结构及UV处理设备
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种UV光检测结构及UV处理设备,所述UV光检测结构包括机体和设于所述机体内部的UV光源和光反射器,所述光反射器用于反射所述UV光源发出的UV光,以使所述UV光照射由所述光发射器所限定的工作区域,所述机体内部具有位于所述工作区域外侧的间隙空间,并具有用于将UV光源的部分余光从边侧漏出至所述间隙空间的透光结构;所述机体设有光传感器,所述光传感器的检测端位于所述间隙空间内,以检测所述UV光源从所述透光结构漏出至所述间隙空间的余光。该检测结构在不干扰UV光处理效果以及不影响UV处理设备内部空间布局的前提下,可以实时监测UV灯的光照情况,获得光学相关参数,而且,结构简单、易于安装,便于进行后期维护。

基本信息
专利标题 :
UV光检测结构及UV处理设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114323263A
申请号 :
CN202111662085.6
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
谭华强李蓬勃
申请人 :
拓荆科技股份有限公司
申请人地址 :
辽宁省沈阳市浑南区水家900号
代理机构 :
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 :
陕芳芳
优先权 :
CN202111662085.6
主分类号 :
G01J1/00
IPC分类号 :
G01J1/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分,偏振、相位或脉冲特性的测量;比色法;辐射高温测定法
G01J1/00
光度测定法,例如照相的曝光表
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01J 1/00
申请日 : 20211230
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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