一种钠离子发射体及其制备方法
实质审查的生效
摘要

本发明提供了一种钠离子发射体及其制备方法,结构紧凑,大大增加了铝硅酸钠涂层厚度和整体结构的附着力度。所述钠离子发射体采用钨作为骨架,直径10微米和100微米的钨粉1:1混合物烧结成的多孔结构作为基板,骨架的倒角结构大大增加了两种材料的结合力,在高温与静电力作用下不会发生脱落。孔隙率25%的多孔钨随着发射浆体的渗入,与表面附着的发射材料烧结在一起,进一步加强了发射材料与整体结构附着强度,保证了在高电压作用下涂层不会因静电力作用剥离。发射涂层附力的增强,可以大大增加涂层厚度,进一步增加了钠离子源的发射能力和使用寿命,钠离子发射体是原锂离子源使用寿命的10倍以上,束流密度是锂离子源的2倍以上。

基本信息
专利标题 :
一种钠离子发射体及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114340124A
申请号 :
CN202111668067.9
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
胡广海陈冉邵林明王一丰陈良
申请人 :
中国科学院合肥物质科学研究院
申请人地址 :
安徽省合肥市庐阳区三十岗乡古城路181号
代理机构 :
北京科迪生专利代理有限责任公司
代理人 :
李晓莉
优先权 :
CN202111668067.9
主分类号 :
H05H1/24
IPC分类号 :
H05H1/24  H05H1/20  
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H05H 1/24
申请日 : 20211230
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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