射频电离装置、射频中和器及其控制方法
公开
摘要
本申请涉及一种射频电离装置、射频中和器及其控制方法；所述射频电离装置，应用于射频中和器，包括：电离腔室以及射频线圈；所述电离腔室的侧壁内置有螺旋通道；所述射频线圈为螺旋形状设计，且结构与所述螺旋通道结构一致；所述射频线圈通过螺旋方式由所述电离腔室的一端安装进入所述螺旋通道；所述射频线圈的两端连接射频线；上述技术方案，通过在电离腔室的侧壁内置螺旋通道，射频线圈被牢固地固定在螺旋通道内，射频使用效率更高；降低了氧化几率，提升射频中和器的使用效果。另外，通过射频中和器控制方法，降低了射频中和器启动和调节过程的操作复杂性，提升了射频中和器的控制效率。
基本信息
专利标题 ：
射频电离装置、射频中和器及其控制方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114302548A
申请号 ：
CN202111670950.1
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2021-12-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘伟基吴秋生冀鸣赵刚易洪波
申请人 ：
中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司
申请人地址 ：
广东省中山市火炬开发区科技东路39号之二219、220室
代理机构 ：
广州市律帆知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
余永文
优先权 ：
CN202111670950.1
主分类号 ：
H05H1/46
IPC分类号 ：
H05H1/46
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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