抗干涉耐污贴合膜的制备方法、贴合膜及屏幕
实质审查的生效
摘要
本申请公开了一种抗干涉耐污贴合膜的制备方法、贴合膜及屏幕,所述贴合膜包括:微透阵列膜和棱镜层,所述方法包括:在所述微透阵列膜下方粘合所述棱镜层;所述棱镜层的棱镜尖峰间距设置为25~50微米,所述棱镜尖峰切面角配置为88°~90°度的三角形结构;设置所述微透阵列膜所贴合的棱镜层为抖动结构,抖动幅度大于6微米;采用PET贴合胶涂料,将所述棱镜层与所述微透阵列膜下方贴合;所述微透阵列膜正面涂布有耐污性能涂料。通过棱镜微结构设计、贴合胶新配方,不仅可以提升成品剥离力,防止使用过程分层及产生过大的贴合没入部分,保证成品的亮度;及采用抗污配方,极大地提升所述微透阵列膜正面的爽滑度,不容易被搬运过程中的乳胶手套污染。
基本信息
专利标题 :
抗干涉耐污贴合膜的制备方法、贴合膜及屏幕
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114280705A
申请号 :
CN202111673702.2
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-31
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
周鹏曹建沈渊徐宇王清孙亮
申请人 :
凯鑫森(上海)功能性薄膜产业股份有限公司
申请人地址 :
上海市金山区漕泾镇合展路196号
代理机构 :
杭州创信知识产权代理有限公司
代理人 :
吴清珠
优先权 :
CN202111673702.2
主分类号 :
G02B3/00
IPC分类号 :
G02B3/00 G02B5/04 G02B1/18 G02F1/13357 C09J4/02 C09J4/06 C09D4/02 C09D4/06 C09D5/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B3/00
简单或复合透镜
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 3/00
申请日 : 20211231
申请日 : 20211231
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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