干涉滤光膜及其制备方法和发光装置
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摘要
本发明涉及一种干涉滤光膜及其制备方法和发光装置，包括如下步骤：在基材上依次形成层叠且交替的高折射率材料薄膜和低折射率材料薄膜；其中，基材上的最内层薄膜为第一层高折射率材料薄膜，第一层高折射率材料薄膜采用热原子层渗透工艺沉积形成，第一层高折射率材料薄膜的沉积步骤包括依次进行的使前驱体渗透至基材的前驱体渗透阶段及沉积形成第一层高折射率材料薄膜的原子层沉积阶段；除第一层薄膜之外，其他各薄膜的沉积工艺独立地选自原子层沉积工艺或PEALD工艺；各高折射率材料薄膜和各低折射率材料薄膜的沉积温度均不大于110℃。本发明制备方法能够有效地避免制膜工艺导致发光器件失效的问题，且制得的干涉滤光膜具有较好的滤波和增透性能。
基本信息
专利标题 ：
干涉滤光膜及其制备方法和发光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113540375A
申请号 ：
CN202110625785.1
公开（公告）日 ：
2021-10-22
申请日 ：
2021-06-04
授权号 ：
CN113540375B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
陈蓉张英豪单斌杨帆李云林源
申请人 ：
华中科技大学
申请人地址 ：
湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
代理机构 ：
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
侯武娇
优先权 ：
CN202110625785.1
主分类号 ：
H01L51/52
IPC分类号 ：
H01L51/52 C23C16/30 C23C16/40 C23C16/455
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法律状态
2022-06-03 ：
授权
2021-11-09 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 51/52
申请日 : 20210604
申请日 : 20210604
2021-10-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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