彩膜基板制备装置、制备方法及彩膜基板
实质审查的生效
摘要
本申请公开了一种彩膜基板制备装置,彩膜基板制备装置包括喷雾生成机构和镀膜机构,待镀基板安装于镀膜机构上,喷雾生成机构包括溶液容置箱、第一导电板、多个喷雾装置以及高压发生器,镀膜机构包括固定件和第二导电板。溶液容置箱内的目标溶液在多个喷雾装置上形成目标液滴,高压发生器在第一导电板和第二导电板之间形成电场,并给目标液滴带上电荷,目标液滴在电场的作用下形成目标喷雾,目标喷雾在电场的作用下定向偏转并移动到待镀基板上形成目标层。本申请还公开了一种彩膜基板制备方法。因此,彩膜基板制备装置和方法具有流程简单、制作方便、成本低和生产效率高等优点。本申请还公开了一种由上述彩膜基板制备装置或方法形成的彩膜基板。
基本信息
专利标题 :
彩膜基板制备装置、制备方法及彩膜基板
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114326200A
申请号 :
CN202111682505.7
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-31
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
姜庆李荣荣
申请人 :
长沙惠科光电有限公司;惠科股份有限公司
申请人地址 :
湖南省长沙市浏阳经济技术开发区康平路109号
代理机构 :
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 :
杨振礼
优先权 :
CN202111682505.7
主分类号 :
G02F1/1335
IPC分类号 :
G02F1/1335
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/1335
•••••与液晶单元结构相连的光学装置,例如偏振器或反射器
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1335
申请日 : 20211231
申请日 : 20211231
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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