彩膜基板及其制作方法、显示装置

授权

摘要

本申请提供一种彩膜基板及其制作方法、显示装置，该彩膜基板包括衬底基板、位于衬底基板上的黑矩阵和彩色滤光层、位于彩色滤光层远离衬底基板一侧的量子点层和位于黑矩阵远离衬底基板一侧的阻隔层，还包括第一无机层，第一无机层至少包括：位于彩色滤光层与量子点层之间的第一部分；位于衬底基板上，且位于量子点层与阻隔层之间的第二部分；及位于阻隔层远离衬底基板一侧的第三部分。应用本申请可以有效降低彩膜基板的内部应力，提高对合精度。

基本信息

专利标题：

彩膜基板及其制作方法、显示装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111785170A

申请号：

CN202010687079.5

公开（公告）日：

2020-10-16

申请日：

2020-07-16

授权号：

CN111785170B

授权日：

2022-04-29

发明人：

隋凯张小磊孙中元贾媛薛大鹏史鲁斌

申请人：

京东方科技集团股份有限公司

申请人地址：

北京市朝阳区酒仙桥路10号

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司

代理人：

王婷

优先权：

CN202010687079.5

主分类号：

G09F9/30

IPC分类号：

G09F9/30 G02F1/1335 G02F1/1339 G02F1/1333