一种彩膜基板的制备方法、彩膜基板及显示面板
实质审查的生效
摘要

本发明涉及一种彩膜基板的制备方法、彩膜基板及显示面板。本发明在基板远离所述第一光刻胶的一侧设置第一掩模板,在第一掩模板远离所述第一光刻胶的一侧设置曝光机,在基板和掩模板的位置未发生偏差时,利用遮光层对光线进行阻挡,防止光线照射遮光层上方的第一光刻胶,保证只有第一通孔内的第一光刻胶被照射,使得最终形成的第一色阻单元嵌合于所述第一通孔内,防止第一色阻单元覆盖于遮光层上,提升第一色阻单元的平坦度,提升显示面板的显示效果。

基本信息
专利标题 :
一种彩膜基板的制备方法、彩膜基板及显示面板
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114280838A
申请号 :
CN202111620639.6
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
陈都
申请人 :
TCL华星光电技术有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
代理机构 :
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 :
莫胜钧
优先权 :
CN202111620639.6
主分类号 :
G02F1/1335
IPC分类号 :
G02F1/1335  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/1335
•••••与液晶单元结构相连的光学装置,例如偏振器或反射器
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1335
申请日 : 20211228
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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