本实用新型公开了一种真空浸渍设备，包括底座、浸渍罐、真空机构和控制柜，所述底座上设有机架，所述控制柜安装于所述机架上，且浸渍罐固定于所述底座上表面；所述浸渍罐包括罐体和加热系统，所述罐体包括外胆和内胆，所述外胆的侧壁上设有进液口、出液口和盖板、所述进液口设有所述出液口的上方，所述盖板上设有通孔，所述内胆置于所述通孔内并将内胆固定于所述盖板上，所述内胆上端设有法兰翻边，所述法兰翻边配有与之相配合的法兰盖，内胆靠近所述法兰翻边的侧壁上设有抽气口和泄压口，所述抽气口与所述真空机构通过抽空管连通，所述控制柜与所述真空机构为电连接。具有操作简便、性能稳定、故障率低、维修性好、耗电低、环保等。