一种真空渗铬用容器、系统
授权
摘要

本实用新型公开了一种真空渗铬用容器、系统,所述容器包括真空箱,所述真空箱包括箱体及箱盖,所述真空箱上还设置有用于对其内部进行抽真空的气路,所述箱盖包括第一密封盖及第二密封盖;所述第一密封盖可拆卸连接于所述箱体的开口端;所述第二密封盖设置在箱体的内侧,第二密封盖通过锥面支撑于箱体内;所述锥面为沿着箱体周向方向延伸的环状,第二密封盖作为箱体内的分层隔板;锥面靠近第一密封盖一侧的尺寸大于另一侧的尺寸;第一密封盖与第二密封盖之间形成腔隙,所述气路的入口端与所述腔隙对接。所述系统以所述容器作为基础或为所述容器的具体运用。采用本方案提出的技术方案,可有效提保证渗铬过程的安全性。

基本信息
专利标题 :
一种真空渗铬用容器、系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202121840614.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-08-06
授权号 :
CN216473440U
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
徐静喻杰叶林杨顺徐皓龙胡宵阳
申请人 :
四川华都核设备制造有限公司
申请人地址 :
四川省成都市都江堰市四川都江堰经济开发区龙翔路5号
代理机构 :
成都四合天行知识产权代理有限公司
代理人 :
高俊
优先权 :
CN202121840614.2
主分类号 :
C23C10/38
IPC分类号 :
C23C10/38  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C10/00
金属材料表面中仅渗入金属元素或硅的固渗
C23C10/28
使用固体,例如粉末、膏剂的
C23C10/34
埋置于粉末混合物中的,例如包埋渗
C23C10/36
仅渗一种元素
C23C10/38
渗铬
法律状态
2022-05-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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