热中子束流整形装置
授权
摘要
本实用新型公开的一种热中子束流整形装置，其包括质子通道和装置主体，所述的装置主体设置在质子通道的后端，所述质子通道是具有直线内腔通道的，且所述质子通道内设置有靶体；所述的装置主体包括反射体和慢化体，所述慢化体设置在质子通道的末端，所述质子通道和慢化体的外周设置有反射体；所述慢化体包括中部慢化体和后部慢化体，所述中部慢化体设置在质子通道的后端，且所述中部慢化体的后表面与后部慢化体的前表面相抵连接。本实用新型通过采用中部慢化体，使中子进入到后部慢化体部分的时候，大部分中子的能量都是处于10keV附近或者低于10keV，从而减少高于10keV的高能中子含量。
基本信息
专利标题 ：
热中子束流整形装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202121865849.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-08-11
授权号 ：
CN216528060U
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
梁天骄陈俊阳胡志良童剑飞周斌傅世年张锐强赵崇光徐俊
申请人 ：
散裂中子源科学中心;中国科学院高能物理研究所
申请人地址 ：
广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区总部二路2号光大数字家庭（推广名：光大we谷）一区1栋1号楼1316号房
代理机构 ：
广东众达律师事务所
代理人 ：
张雪华
优先权 ：
CN202121865849.7
主分类号 ：
G21K1/00
IPC分类号 ：
G21K1/00 G21K1/06 G21K5/04 G21F1/02 G21F1/08 A61N5/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜
G21K1/00
粒子或电离辐射的处理装置，如聚焦或慢化
法律状态
2022-05-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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