一种热中子照相用成像板及其制备方法
授权
摘要
本发明公开了一种热中子照相用成像板及其制备方法，该方案包括有从上至下依次重叠设置的伽马过滤层、荧光层、支撑层和铁磁层，主要通过荧光粉制备、涂布以及成型三个步骤制备。该方案利用中子与成像板内的硫氧化钆反应产生次级粒子，次级粒子和成像板内的荧光存贮材料发生反应形成中子束流空间分布的潜像，此潜像可通过专用的成像板激光扫描设备读出，从而实现热中子探测，填补了国内外的技术空白。
基本信息
专利标题 ：
一种热中子照相用成像板及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111103617A
申请号 ：
CN201911351141.7
公开（公告）日 ：
2020-05-05
申请日 ：
2019-12-25
授权号 ：
CN111103617B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
吴洋唐彬彭述明钱达志霍合勇尹伟李航孙勇刘斌曹超王胜朱世雷姚健陈玉山李江波张旸
申请人 ：
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
申请人地址 ：
四川省绵阳市919信箱211分箱
代理机构 ：
中国工程物理研究院专利中心
代理人 ：
翟长明
优先权 ：
CN201911351141.7
主分类号 ：
G01T3/00
IPC分类号 ：
G01T3/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01T
核辐射或X射线辐射的测量
G01T3/00
中子辐射的测量
法律状态
2022-06-07 ：
授权
2020-05-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01T 3/00
申请日 : 20191225
申请日 : 20191225
2020-05-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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