一种半导体生产用静电消除装置
授权
摘要
本实用新型属于半导体生产技术领域，尤其为一种半导体生产用静电消除装置，针对现有的半导体生产用静电消除设备的操作步骤复杂，静电消除效果不佳，且易产生灰尘残留的问题，现提出如下方案，其包括底框，所述底框内固定安装有放置网板，底框的顶部一侧固定安装有气缸，气缸的输出端上固定安装有横板，横板的底部固定安装有两个安装板，两个安装板的底部固定安装有同一个导电板，导电板的顶部开设有多个通孔。本实用新型带动两个吹风扇叶圆周运动的同时进行自转的对半导体上带静电的灰尘进行吹拂清理，并同时带动出风扇叶旋转对灰尘进行收集处理，且可控制导电板与半导体接触将静电荷释放，提升静电消除效率。
基本信息
专利标题 ：
一种半导体生产用静电消除装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122070930.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-08-31
授权号 ：
CN216162903U
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
杨洁
申请人 ：
杨洁
申请人地址 ：
四川省成都市天府新区华阳街道协和下街230号1层附109号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202122070930.2
主分类号 ：
H05F3/00
IPC分类号 ：
H05F3/00 B08B5/02 B08B5/04 B01D46/10
法律状态
2022-04-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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