一种半导体加工用静电消除设备
授权
摘要
本实用新型涉及半导体技术领域，具体揭示了一种半导体加工用静电消除设备，包括底箱，所述底箱底部的两侧均固定连接有支座，所述底箱的顶部固定连接有顶箱，所述顶箱前侧的两侧均活动连接有箱门，所述顶箱内腔的底部安装有半导体工件本体，所述底箱前侧的底部固定连接有伺服电机，伺服电机的输出端固定连接有转轴。本实用新型通过伺服电机带动转轴转动，通过转轴带动主动齿轮转动，通过主动齿轮带动齿圈转动，通过齿圈的转动带动支撑杆转动，通过支撑杆的转动带动光杆在底箱的内壁转动，同时齿圈的转动带动静电消除器转动，达到了静电消除范围广的优点，解决了现有的半导体加工用静电消除设备在使用时静电消除范围小的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种半导体加工用静电消除设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123162779.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-16
授权号 ：
CN216414645U
授权日 ：
2022-04-29
发明人 ：
邢玉雯
申请人 ：
北京世源希达工程技术有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区万寿路27号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202123162779.1
主分类号 ：
H05F3/06
IPC分类号 ：
H05F3/06
法律状态
2022-04-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
