一种真空镀膜机可公自转工件转架机构
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摘要
本实用新型公开了一种真空镀膜机可公自转工件转架机构，涉及真空镀膜机结构技术领域，为解决现有的真空镀膜机工件转架机构不能够实现在进行公转的同时又实现自转，这样使工件镀膜的效果不好的问题。所述支撑座的上方安装有转动座，所述转动座的外壁四周安装有主转动齿轮，所述主转动齿轮的上方安装有转动架安装座，所述转动架安装座的内部设置有通槽，所述通槽的内部安装有转动盘，所述转动盘的下端设置有从动齿轮，所述转动盘的上端设置有固定安装座，所述固定安装座的上方安装有转架，所述转架的上方安装有限位装置，所述转动架安装座的上方安装有限位固定座，所述限位固定座的上方安装有限位杆，所述限位装置的下方安装有放置装置架。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜机可公自转工件转架机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122095815.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-01
授权号 ：
CN216514104U
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
黄桃范玉山
申请人 ：
苏州德耐纳米科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区甪直镇东庄路168号6幢
代理机构 ：
苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
季栋林
优先权 ：
CN202122095815.0
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2022-05-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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